上海福宜真空設(shè)備有限公司-工模具硬質(zhì)涂層鍍膜設(shè)備、磁控濺射鍍膜設(shè)備、多弧離子鍍膜設(shè)備、磁控濺射復(fù)合多弧離子鍍鍍膜設(shè)備、連續(xù)線式磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線

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上海福宜真空設(shè)備有限公司，是致力于高端真空鍍膜設(shè)備、復(fù)雜鍍膜工藝和真空設(shè)備核心部件的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。公司開發(fā)的主要設(shè)備有：工模具硬質(zhì)涂層鍍膜設(shè)備、磁控濺射鍍膜設(shè)備、多弧離子鍍膜設(shè)備、磁控濺射復(fù)合多弧離子鍍鍍膜設(shè)備、連續(xù)線式磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線、光學鍍膜設(shè)備、CVD和PECVD化學氣相沉積設(shè)備、ICP刻蝕設(shè)備和ALD原子層沉積等系列真空鍍膜和表面處理設(shè)備。
公司創(chuàng)始人和核心技術(shù)團隊，致力于復(fù)雜鍍膜工藝的開發(fā)，鍍膜工藝和設(shè)備集成的理論和實際相結(jié)合是公司發(fā)展的主要特色。相對于整機設(shè)備和鍍膜工藝技術(shù)，國內(nèi)核心部件的研究和制備技術(shù)水平與國外差距更大。公司投入超過1000萬元，重點開發(fā)的核心部件主要有：高材料利用率（材料利用率超過40-60%以上）矩形平面磁控濺射陰極、產(chǎn)業(yè)用旋轉(zhuǎn)磁控濺射陰極（材料利用率達到80%以上）、線性離子源、多弧陰極、多弧過濾陰極和多弧旋轉(zhuǎn)柱狀陰極等。通過核心部件的研發(fā)，提升了公司整機設(shè)備的技術(shù)水平、性價比和核心競爭力，主要技術(shù)達到國際同期水平。

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